Установки вакуумной пайки и корпусирования
SAVTECH R – установки для бездефектной пайки в вакууме и защитных газовых средах, разработанное как для опытного, так и для мелкосерийного поточного производства. Рабочая камера выполняется в двух вариантах: для пайки компонентов высотой до 50 мм (индекс М) и до 100 мм (индекс L).

Регулируемая скорость нагрева, выдержки и охлаждения в совокупности с возможностью разрежения среды в камере позволяет создавать паяные соединения, соответствующие высоким стандартам качества.

Установки проверки на герметичность пузырьковым методом SAVTECH LT-B
Установка служит для заполнения изделий инертными газами, нагрева изделий, проверки на герметичность пузырьковым методом.

Состав:
Масс-спектрометрический течеискатель;
Насос вакуумный спиральный;
Камера опрессовки изделий;
Испытательная вакуумная камера;
Система напуска пробного газа (гелия);
Система измерения и управления;

Термобарокамеры и системы имитации космического пространства
Обеспечивают проведения испытаний в контролируемой внешней среде. Объекты испытаний подвергаются процессам термоциклирования в соответствии с настраиваемой программой.

Работа в режиме отрицательных температур до минус 180оС, при этом камера комплектуется системой криогенных экранов, захолаживаемых жидким азотом.
Комплектация прочими необходимыми заказчику приборами или устройствами.
Изготовление камер любого размера в соответствии с техническим заданием.

Установки магнетронного напыления HC-PVD
Предназначены для:
• нанесения защитно-декоративных покрытий
• декоративной отделки деталей с защитой от коррозии
• функциональных покрытий – для придания специальных свойств поверхности деталей (износостойкости, твердости, электроизоляционных, магнитных и т.д.)

PVD метод позволяет наносить любые металлы, сплавы, оксиды, карбиды и нитриды c предварительной ионной очисткой/активацией поверхности, нагревом и ионным ассистированием в процессе напыления.

Вакуумно-нагнетательные установки SVAK
Назначение:
- Для пропитки электротехнических изделий смолами и лаками;
- Для проведения комплексных испытаний при пониженном и повышенном
давлении и различных температурах.

Область применения:
- Производство электротехнических изделий;
- Испытание авиационной, космической техники и техники специального
назначения;
- Оборонная промышленность.

Установки плазменной очистки SAVTECH PC
Установки плазменной очистки SAVTECH PC используются для предварительной обработки поверхностей и перед технологическими операциями: вакуумной пайкой, нанесением фоторезиста, вакуумным напылением, склеиванием, микросваркой.

В установках можно проводится:
- активацию поверхности обрабатываемых изделий;
- очистки подложек, стекла керамики, печатных плат от поверхностных загрязнений;
- травление слоев некоторых материалов;
- обработка порошковых материалов.

Установка ионно-плазменного напыления SVT-УНЗП
Установка SVT-УНЗП1 нанесения жаростойких, защитных, коррозионно-стойких и эрозионно-стойких покрытий на лопатки турбин и другие детали газотурбинного двигателя плазменным методом (дуговой разряд). Установки позволяют проводить процессы ионной обработки поверхности.

Установка работает под управлением SCADA-системы, позволяющей управлять процессом как с экрана на передней панели установки, так и удалённо через защищённое VPN-соединение при наличии подключения к сети интернет.

Установки терморезистивного напыления U-RTD
Серия установок SAVTECH U-RTD предназначены как для сегмента R&D, так и для нанесения покрытий на серийные изделия. Разработаны для замены устаревших установок УВН-71 и УВН-74. Установки оснащены современными комплектующими, средствами измерения и системой управления.

Установки предназначены для нанесения резистивных слоев и металлов на поверхности изделий и подложек из поликора или ситалла и обеспечивают небольшой разброс толщины напыленной пленки по загрузке.

Горизонтальные диффузионные печи FALCON 100
Применяются для процессов высокотемпературного отжига, осаждения химических паров (LPCVD, MOCVD) поликристаллического кремния, Si₃N₄, эпитаксии, LTO, термического окисления SiO₂, диффузии, процессов POCl₃, TCA, выращивания графитовых нанотрубок, осаждения молекулярных слоёв и других процессов при атмосферном или пониженном давлении.

Установки имеют возможность ручной или автоматической загрузки кассет с обрабатываемыми пластинами диаметром 100, 150 или 200 мм.